第1350章 光刻机
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  七月十五號，华盛顿，美国商务部產业安全局。一份编號bis-2002-0715的文件签发。
  文件抬头：致荷兰阿斯麦尔公司（asml）。
  正文三十条，每一条都是技术限制。核心意思一句话：从即日起，停止向中华人民共和国出口任何型號的光刻机设备，包括已签订合同但尚未交付的订单。
  三十条，写了十二页。每一条后面跟著一个法律依据——《出口管理条例》第几章第几节，《瓦森纳协定》附录几，写得密密麻麻。
  七月十七號，消息传到京城。
  李建国在煤市街坐了两个小时，把文件的影印件留在方桌上，走了。
  张红旗把三十条从头看到尾，一条一条看的。看完，搁下，没说话。
  七月二十號。
  鹏城，中科院微电子所南方实验室。
  钱院士的助手坐夜班飞机到京城，凌晨四点到的，没回酒店，直接打车到煤市街。
  张红旗起得早，五点半就在院子里喝茶了。
  助手递过来一份实验报告，三十七页。
  张红旗翻到第十四页——红色標註的那一段。
  “euv极紫外光源反射镜面镀膜实验。第四十七次试验，鉬硅多层膜在六纳米波段反射率未达到百分之六十的最低要求，最高值百分之四十一点三。镀膜层在连续工作十二小时后出现微裂纹。判定：失败。”
  助手站在旁边，没坐。