第160章 首座12英寸晶圆厂投產

  “没错！12英寸晶圆面积更大，传统的气流设计在腔体边缘会產生无法忽视的涡流。我们需要在腔体侧壁这个位置，”

  他用电子笔在模型上精確圈出几个点，

  “加装一组可独立调控的微型辅助喷嘴，像一道『空气帘幕』一样，抚平边缘的气流紊乱！”

  方案既定，立刻行动。金秉洙亲自趴在尚有余温的设备外壳上，用马克笔勾勒出喷嘴的安装坐標；林薇则一个电话直接接通了大方微电子的总裁热线，要求紧急空运特製喷嘴组件。

  五个小时后，改装完成。

  当第一批经过“气流补偿”的测试晶圆出炉，检测屏幕上的数据曲线变得前所未有的平坦，均匀性偏差稳定在1.1%！

  车间里爆发出短暂的欢呼，林薇却只是微微頷首，拍了拍年轻工程师的肩膀，转身奔赴下一个战场，光刻车间。

  那里，矗立著“追光计划”结出的第一颗硕果：首台国產193nm浸没式光刻机——“启明一號”。

  张京京博士正紧盯著主控屏上跳动的雷射定位误差值，脸色凝重。

  “林总，目前静態定位精度卡在28纳米，距离我们20纳米的设计目標还有差距。这个误差会导致电晶体错位，直接拉低良率。”

  张京京的语气充满了不甘。

  林薇凝视著那跳动的红色数字，脑海中电光火石般闪过mist工艺的核心思想，微界面调控。

  “张博士，我们能否在光刻前，利用mist技术，在硅片表面预先形成一层分子级厚度的『定向引导膜』？这层膜或许不仅能优化光刻胶的附著均匀性，其本身特性是否也能对雷射的折射和散射產生补偿效应，间接提升有效定位精度？”

  这个跨领域的思路让张京京一怔，隨即眼中爆发出兴奋的光芒。

  “有道理！这是一种系统性的工艺协同！”