第34章 不抢就换

  陈进一想到张云似乎並非技术工程师的身份，还是耐心的解释了：

  “这台ssa600/20採用的是193nm氟化氬深紫外光源。

  它的曝光波长达到了28纳米，採用沉浸式光刻技术。

  配合我们自研的双工作檯系统，每小时能完成120片晶圆的曝光作业，套刻精度控制在3纳米以內。

  它的光源系统用了我们自己研发的准分子雷射器，稳定性比进口设备提升了15%。

  而且重点零部件国產化率超过80%。

  当然，和国际顶尖的5纳米光刻机比，还有差距。

  但这已经是我们目前能拿出的最好成果了。

  目前，我们还在集中攻克7纳米製程的量產问题。”

  陈进一的话有些无奈，龙国的半导体行业，尤其是光刻机技术还是太落后了些。

  谁都知道半导体领域想要突破，核心中的核心就是光刻机。

  如今龙国大部分高端晶片，都需要依赖进口生產。

  而且存在技术专利的问题，每年都要上一大笔授权费用。

  眼前这台机子已经是好几年前的產物了，光是7纳米级別的生產就已经卡了他们许多年。

  张云听完后，紧接著问道：