第34章 不抢就换
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  “它在七纳米以下的製程上有什么问题吗?”
  陈进一没想到他会直接问出这个问题,愣了一下才回答:
  “问题还不少,主要是在多重曝光的叠加误差上。
  duv的波长是193nm,从根本上限制了解析度的理论上限。
  目前28纳米波长要实现7纳米製程,需要进行4次曝光。
  但每次曝光的定位误差会累积,目前最多只能稳定在9纳米左右,离量產要求的7纳米还有距离。”
  严正行听到这里,嘆了口气,心里摇了摇头。
  这就是他当初为什么离开龙国的原因了。
  和世界顶尖的光刻机相差数代的技术,要怎么靠努力去追赶?
  但靠张云可以呀!
  张云等人此次前来的目的,自然是为了解决晶片生產问题,使其能够在战备状態下提供应有的支持。
  不过张云还没有天真到,认为能几个月时间就造出一台超越euv光刻机的东西。
  虽然张云的脑中確实有全套光刻机的生產技术。
  但还是那个问题,技术消化也需要时间。
  即使拥有全套 euv技术图纸和原理知识,並得到国家最高权力的全力支持。